Summary E-beam resist를 선택할때 중요하게 고려할 사항들은 contrast, sensitivity, resolution, etch resistance이다. EBL에 영향을 미치는 많은 매개 변수들은 서로간에 복잡하게 영향을 주기때문에 성공적인 Electron beam … [Read more...] about E-Beam Lithography Resists (2)- 하버드대 CNS 나노팹에서 소자제조 – 3화
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