Summary 전자빔 리소그래피에서 널리 사용되는 감광제인 PMMA와 ZEP520A 특성을 비교해보자. 어떤 감광제를 사용할지 선택은 제작하고자 하는 소자가 필요하는 공정과 요구조건을 우선 먼저 이해하는게 필요하다. PMMA에 비해 가격이 비싼 ZEP520은 etch … [Read more...] about E-Beam Resist – 하버드대 CNS 나노팹에서 소자제조 – 2화
하버드대 CNS
하버드대 CNS 나노팹에서 소자제조 – Ep1
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Summary
차세대 반도체소자 개발은 새로운 공정기술의 요구와 더불어 반도체 장비의 기술 개발을 유도하는데 새롭게 개발된 기술의 성능평가를 위해 맟춤형 test structure의 제작이 요구된다. Prototype structure의 Nanofabrication을 위해 … [Read more...] about 하버드대 CNS 나노팹에서 소자제조 – Ep1
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