Summary 전자빔 리소그래피에서 널리 사용되는 감광제인 PMMA와 ZEP520A 특성을 비교해보자. 어떤 감광제를 사용할지 선택은 제작하고자 하는 소자가 필요하는 공정과 요구조건을 우선 먼저 이해하는게 필요하다. PMMA에 비해 가격이 비싼 ZEP520은 etch … [Read more...] about E-Beam Resist – 하버드대 CNS 나노팹에서 소자제조 – 2화
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