Summary 청춘을 바쳐 일한다 한들 내운명의 키를 내가 갖고 있질 못하는 직장생활이 내 인생의 전부가 아니면 미래에 내가 주인된 삶을 위해서 젊은 지금 나는 무엇을 준비해야 하나는 물음에 답이없는 갑갑함이 있을때 치칠 수술을 하게되면서 잠시나마 일상에서 탈피한다. 수술후 직장 생활은 이전과 … [Read more...] about 하늘위에하늘 제2화| 내가 주인된 삶을 위한 고민
하늘위에하늘 제1화 : 1992년 대선이 일깨워준 나의 도전
Summary 재직중인 회사 회장이 출마한 1992년 대선을 계기로 직장인으로서 나의 자화상을 발견하게된다. 시간이 지나면서 무뎌져가는 나 자신을 보면서 앞서 가신분들의 현재의 모습이 미래 나의 모습과 크게 다르지 않을 것이란 생각을 하게 된다. 직장생활 내내 얼마만큼 내가 주인 된 … [Read more...] about 하늘위에하늘 제1화 : 1992년 대선이 일깨워준 나의 도전
Things to know before doing E-Beam lithography at Harvard CNS: Ep2
Summary In electron beam lithography, any larger pattern than a writing field is subdivided into multiple writing fields. If writing field alignment isn't … [Read more...] about Things to know before doing E-Beam lithography at Harvard CNS: Ep2
Things to know before doing E-Beam lithography at Harvard CNS: Ep1
Summary This comic explains what you need to know before doing electron beam lithography with Elionix systems at Harvard CNS: system, beam spot size, shot pitch, … [Read more...] about Things to know before doing E-Beam lithography at Harvard CNS: Ep1
Ion beam angle uniformity wafer mapping using TW V-curves: Ep2
Summary High resolution micro-uniformity map of ion beam angle is valuable to monitor beam quality control performance of an ion implanter. It provides details … [Read more...] about Ion beam angle uniformity wafer mapping using TW V-curves: Ep2
Ion beam angle uniformity wafer mapping using TW V-curves: Ep1
Summary Thermal Wave(TW) technique can be used to monitor the micro-uniformity beam angle performance in ion implantation. Let's start with TW measurement … [Read more...] about Ion beam angle uniformity wafer mapping using TW V-curves: Ep1
Wafer surface structure sensitivity to plasma doping induced arcing
Summary Plasma induced wafer arcing is sensitive to hardware condition as well as wafer surface structure, such as pattern layout, feature density and wafer edge … [Read more...] about Wafer surface structure sensitivity to plasma doping induced arcing
How to monitor plasma ion implantation process for fault detection?
Summary How to ensure the dose accuracy of the plasma doping or PIII system. What algorithm does the dose controller use to integrate Faraday currents?. How to … [Read more...] about How to monitor plasma ion implantation process for fault detection?